28nm以上制程的成熟芯片有望实现全流程国产化了!9月9日,工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知:目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中,氟化氩光刻机的核心技术指标为:光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。有消息称,国产氟化氩光刻机...
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